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c，力转d）通过直接在HTM溶液中加入掺杂剂（c，溶液过程）或将薄膜暴露在DMSO-HBr蒸气中（d，气相过程），掺杂DMSO-HBr薄膜的电导率。中美广泛的分子掺杂剂已被用于有机半导体的p型和n型掺杂。

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